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Intel 日前推出多款針對入門及流動裝置設計的 Pentium 及 Celeron 系列處理器,均採用 14nm 工藝制程,更整合繪圖能力更高的 HD Graphics 505/500 GPU 提升日常圖像處理效能,並以超低 TDP 設計,省電高效,無需風冷散熱系統亦能穩定運作。Intel 最新推出兩款 Pentium 系列及 Celeron 系列處理器,主要針對流動裝置設計,以 14nm 工藝制程打造,採用 Apollo Lake 架構,全線均內建 HD Graphics 505/500 GPU ,令圖像處理效能進一步提升,據 Intel 表示,整體效能相對上代提升近 30% ,立體繪圖效能亦更高達 50% 提升,適合新一代入門級 PC/ 筆電、 AIO PC 、 Mini PC 等。
是次推出處理器的型號包括 Celeron N3450 、 Celeron N3350 、 Pentium N4200 及 Pentium J4205 , Celeron N3350 為雙核雙線程外,其他均為 4 核 4 線程,最高時脈為 2.6GHz ,整個系列均以高效低耗為賣點,除了 Pentium J4205 的 TDP 為 10W 外,其他的 TDP 僅為 6W ,省電能力出色,而且產生的熱量低微,無需採用額外風冷散熱系統。
Intel 30 日正式發佈 Core 第 7 代 KabyLake 處理器,以先進的 14nm+ 工藝製程製造,將時脈及功耗優化,為新一代旗艦級處理器。另外,配備 KabyLake 處理器的行動電腦及多合一電腦亦將於 9 月底陸續公佈。Intel 最新的第 7 代處理器的開發代號為「 KabyLake 」,採用 14nm+ 工藝製程打造,時脈優化效能提升,以上代 i7-6500U 對比最新的 i7-7500U ,同樣為 2 核 4 線程及 15W TPD ,但時脈由 3.1GHz 升至 3.5GHz ,提升 12% 效能,而實際應用如網頁效能則上升 19% 。
另外,圖像處理方面亦大幅強化,第 7 代處理器支援 4K HEVC 10bit decode/encode 及 VP9 decode ,並全面優化 VR 及 360 度全景視頻及 4K 視頻,總體來說, 3D 圖像處理效能提供 3.5 倍。
Intel 日前於台灣地區發佈最新 SSD 600P ﹐以採用 PCIe NVMe 技術為賣點,效能大幅提升, Intel 率先將其引入大眾化市場,早著先機向加強個人市場佔有率。Intel SSD 600P 採用 M.2 Type 2280 介面規格,控制器支援 PCIe 3.0 NVMe 規範,提供 128 、 256GB 及 512GB 等容量,以 512GB 為例,其循序讀取 (MB/s) 為 1775 、循序寫入 (MB/s) 為 560 、隨機讀取 (IOPS) 為 128,500 、隨機寫入 (IOPS) 為 128,000 。
據了解, Intel SSD 600P 128GB 、 256GB 及 512GB 的參考市場價格分別為 NTD 1,990 (HK$487) 、 NTD 2,990 (HK$732) 及 NTD 5,290(HK$1,294) 。
步入 14nm 至 10nm 工藝制程,研發過程遇到更大挑戰, Intel 早前宣佈放棄多年使用的「 Tick-Tock 」矽與微架構發展戰略,轉以「製程 > 架構 > 優化」三個步驟構成處理器開發週期,令 Kaby Lake 第 7 代 Core Kabylake 處理器仍採用 14nm 制程打造,近日市場釋出更多關於 Kabylake 處理器規格,並預料最早可於 10 月左右面世。近三代的處理器包括 Broadwell 、 Skylake 及 Kabylake 處理器均採用 14nm 工藝打造,但製程分為 14nm 及 14+nm 工藝,新處理器採用後者優化版打造,效能及功耗當然大有不同。 Kabylake 處理器沿用 Skylake 規劃,首波先推 i5 及 i7 系列桌上型產品, TPD 不變,同樣以 35W/65W/95W 劃分,以 65W 為主流。
Intel 於 IDF 大會上宣佈進一步加強客製化晶圓代工市場,即將為 ARM 、 LG 及 Spreadtrum 等進行 10nm/14nm 晶圓代工,進一步鞏固處理器晶片皇者地位。Intel 技術與製造事業群副總裁暨英特爾客製化晶圓代工共同總經理 Zane Ball 表示,旗下 10nm 晶圓代工將納入 ARM 架構, LG 亦將採用 10nm 製程生產新一代手機晶片,而 Spreadtrum 則會採用 14nm 製程,對多間晶圓廠商構成壓力。
雖然 Intel 宣佈大步進入客製化晶圓代工市場,但 10nm/14nm 產能仍主力投放於旗下的處理器晶片上,而代工則主要針對先進製程的晶圓製造及完整的後段封測等製程上。